珀金埃爾默企業(yè)管理（上海）有限公司
NexION 5000 ICP-MS 在超純水分析中的應用
檢測樣品：水
檢測項目：重金屬
方案概述：超純水（UPW）被廣泛地用于半導體器件生產(chǎn)中所有濕法工藝步驟,，包括晶片沖洗和化學浴中化合物的稀釋,。在這些關(guān)鍵步驟中，可能會吸收來自化學浴和沖洗水中的污染物,，然后通過一系列的化學和電化學反應沉淀到硅表面,。在成品的重點區(qū)域中,，如果金屬污染物的濃度達到50ppq,，就會改變集成電路部件的電氣參數(shù),，導致其無法通過后的電氣測試,。因此超純水純度測定至關(guān)重要。
超純水（UPW）被廣泛地用于半導體器件生產(chǎn)中所有濕法工藝步驟,，包括晶片沖洗和化學浴中化合物的稀釋。在這些關(guān)鍵步驟中,，可能會吸收來自化學浴和沖洗水中的污染物,，然后通過一系列的化學和電化學反應沉淀到硅表面。在成品的重點區(qū)域中,，如果金屬污染物的濃度達到50 ppq,，就會改變集成電路部件的電氣參數(shù)，導致其無法通過后的電氣測試,。因此超純水純度測定至關(guān)重要,。在SEMI F63-0918《半導體加工中超純水使用指南》中，除B（50 ppt）和Ni（3 ppt）外,，26 種金屬污染物的目標值應小于1 ppt,。
在此，我們將展示出珀金埃爾默化學高分辨多重四極桿ICP-MS 儀器NexION 5000 獲得的超純水分析結(jié)果,。NexION 5000 四組四極桿組成的多重四極桿ICP-MS 質(zhì)譜平臺,，通過各四極桿的不同質(zhì)量分辨能力和工作模式，結(jié)合碰撞反應池技術(shù),，實現(xiàn)化學高分辨,，獲得干擾消除。
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